GilbertBem
Оборудование для создания электрических соединений между контактными площадками кристаллов и подложки https://atomstroy-ng.ru/sistemaventilyacii Метод: ионно-лучевое послойное травление Размеры образца (кросс-секционирование): от 3*3*0,7 мм до 10*10*4,0 мм Размеры образца (планарная обработка): диам https://atomstroy-ng.ru/ustanovkaobrbotkiorganichrasvoritelyah 50 мм*В 25 мм https://atomstroy-ng.ru/ruchnayagalvanichliniya LINT-208GH https://atomstroy-ng.ru/avtomatizacyagalvanliniy CX-DMP910 https://atomstroy-ng.ru/ustanovkahimobrabotki Дополнительное оборудование , в которое входят установки для очистки, которые автоматически очищают, отмывают и сушат фотошаблоны полупроводниковых пластин после их дисковой резки https://atomstroy-ng.ru/dopoborudovanie Автономная станция охлаждения для установок дисковой резки, предназначенная для подачи, охлаждения, циркуляции и фильтрации смазочно-охлаждающей жидкости https://atomstroy-ng.ru/dopoborudovanie Механическое утонение образца для просвечивающей электронной микроскопии (ПЭМ). Значительно сокращает время, затраченное на процесс финальной подготовки с помощью систем ионно-лучевой полировки https://atomstroy-ng.ru/centrifugadlyasushki